一、設(shè)備參數(shù)設(shè)置

在進(jìn)行真空覆膜之前，需要進(jìn)行工藝參數(shù)的設(shè)置。具體的設(shè)置要根據(jù)不同的材料和膜層進(jìn)行調(diào)整。通常需要設(shè)置的參數(shù)包括反應(yīng)壓力、溫度、時間及氣體流量等。在設(shè)置階段，需要根據(jù)所需的材料和質(zhì)量進(jìn)行調(diào)整，確定一個合理的參數(shù)范圍。

二、真空度的控制

真空度是真空覆膜的重要參數(shù)之一。在膜層制備的過程中，需要保證室內(nèi)真空度始終處于一定范圍內(nèi)。如實(shí)驗(yàn)室級別的真空度一般大約為10^?5-10^?7 mbar左右，而生產(chǎn)中一般要求真空度為10^?4-10^?5 mbar。

真空度的控制需要根據(jù)實(shí)際需求來進(jìn)行調(diào)整。一般需要進(jìn)行多次測試，通過不斷調(diào)整真空泵的轉(zhuǎn)速和抽氣時間來實(shí)現(xiàn)真空度的控制。

三、電源參數(shù)設(shè)置

真空覆膜機(jī)的電源參數(shù)設(shè)置直接影響到膜層的制備質(zhì)量。一般需要根據(jù)材料的物理性質(zhì)以及所需的膜厚來進(jìn)行調(diào)整。

常見的電源參數(shù)包括功率、電壓和頻率等。在設(shè)置電源參數(shù)時，需要先了解所需的材料和膜層，然后選擇合適的功率和電壓，并合理調(diào)整頻率。